sales@plutosemitech.com | WhatsApp:  +86-17701852595
HogarNoticias Noticias de la industria ¿Cuánto pesa una oblea de silicio de 300 mm?

¿Cuánto pesa una oblea de silicio de 300 mm?

2025-12-08

En la industria de fabricación de semiconductores, las obleas de silicio son la base sobre la que se construyen los circuitos integrados, los microchips y los sensores. Entre los diversos tamaños de obleas, la de 300 mm (equivalente a 30 cm de diámetro) se ha convertido en el estándar de la industria para la fabricación de chips a gran escala. Comprender su peso no es solo una cuestión de curiosidad, sino también un factor crítico que influye en los sistemas de manipulación, la automatización robótica y la logística de materiales en entornos de salas blancas. Este artículo explica cómo calcular el peso de una oblea de silicio de 300 mm, los factores que lo afectan y cómo los fabricantes... plutonio Garantizar la precisión en la producción de obleas.


Parámetros básicos de una oblea de silicio de 300 mm

Una oblea de silicio es una lámina delgada y circular de silicio monocristalino. Las dimensiones físicas de la oblea de 300 mm están estrictamente controladas por estándares internacionales (Semi M1). Estas especificaciones definen el diámetro, el espesor, las características del borde y la tolerancia permitida de la oblea, lo que garantiza una compatibilidad uniforme entre los equipos de fabricación en todo el mundo.

parameterspecification (typical)
diámetro300 mm (12 pulgadas)
radio150 milímetros
espesor775 ± 25 µm
materialsilicio monocristalino
densidad del silicio2,33 g/cm³
formaCircular con una pequeña superficie plana o muesca para alineación.

A partir de estos parámetros, es posible estimar la masa aproximada de la oblea mediante un cálculo geométrico simple.


Cálculo del peso de una oblea de 300 mm

El peso de una oblea de silicio depende principalmente de su volumen y de la densidad del material. El volumen de una oblea circular se puede calcular como:

volumen = π × (radio²) × espesor

  1. convertir todas las dimensiones a centímetros

    • radio = 15 cm

    • espesor = 0,0775 cm

  2. calcular el volumen volumen = 3,1416 × (15²) × 0,0775 ≈ 54,7 cm³

  3. multiplicar por la densidad de silicio peso = 54,7 cm³ × 2,33 g/cm³ ≈ 127,45 gramos

Por lo tanto, una oblea de silicio estándar de 300 mm suele pesar alrededor de 127 gramosramos. sin embargo, dependiendo del tipo de oblea y la forma del borde, el peso puede variar entre 120 g a 130 g.


Factores que influyen en el peso de la oblea

Aunque todas las obleas de 300 mm comparten el mismo diámetro nominal, su masa real puede variar ligeramente debido a varios factores técnicos y materiales.

1. variación del espesor de la oblea

El espesor de las obleas está estandarizado, pero no es idéntico en todos los lotes. Por ejemplo, las obleas utilizadas en dispositivos de potencia o aplicaciones MEMS pueden ser más gruesas para mejorar la estabilidad mecánica, aumentando la masa total. Por otro lado, las obleas más delgadas se prefieren en tecnologías de semiconductores flexibles y de circuitos integrados 3D para reducir la tensión durante la unión.

2. pureza del material y dopaje

La adición de dopantes como boro, fósforo o arsénico cambia ligeramente la densidad de la oblea. Aunque estos niveles de concentración suelen ser inferiores al 1%, pueden causar pequeñas diferencias en el peso, a veces en el rango de ±0,5 g por oblea. Las obleas de zona de flotación de alta pureza tienden a ser marginalmente más ligeras que las muy dopadas.

3. Diseño de contorno de borde y muesca

El borde de la oblea, a menudo biselado o redondeado, se procesa para evitar microfisuras. El tamaño y la geometría de este borde reducen ligeramente el volumen total de la oblea, generalmente menos del 0,2 %. Además, el corte de muesca utilizado para la alineación de la oblea elimina algunos miligramos de material.

4. recubrimientos o capas superficiales

Algunas obleas se entregan con recubrimientos de óxido o nitruro térmico para la preparación del proceso. Una capa de óxido de 1 µm en ambos lados agrega aproximadamente 0,6 g a la masa total de la oblea. En sistemas de manipulación ultralimpia, esta diferencia puede influir en la calibración robótica o el equilibrio del casete.


Comparación de diferentes tamaños y pesos de obleas

wafer diámetrotypical espesorapprox. weight (g)
100 mm (4 pulgadas)525 µm10 gramos
150 milímetros (6 pulgadas)675 µm25 gramos
200 mm (8 pulgadas)725 µm55 gramos
300 mm (12 pulgadas)775 µm127 gramos
450 mm (18 pulgadas)**925 µm300 g (estimado)

A medida que aumenta el diámetro de la oblea, el peso crece exponencialmente porque el área de superficie se expande con el cuadrado del radio. La oblea de 300 mm ofrece 2,25 veces el área de una oblea de 200 mm, lo que permite más chips por lote y una mayor eficiencia de fabricación.


Consideraciones sobre manipulación y automatización

En las plantas de fabricación de semiconductores, incluso una diferencia de unos pocos gramos puede influir en la calibración del brazo mecánico, el diseño del casete y el equilibrio del mandril de vacío. Los sistemas automatizados de manipulación de obleas deben considerar cargas tanto estáticas como dinámicas. Por ejemplo, un casete de 25 obleas lleno de obleas de 300 mm pesa aproximadamente 3,2 kilogramos, excluyendo el peso del portador. Por lo tanto, los robots de sala limpia están optimizados para la estabilidad, el control de la vibración y la salida de torque precisa.

A los fabricantes les gusta plutonio Han desarrollado tecnologías avanzadas de fabricación y prueba de obleas que garantizan uniformidad dimensional y consistencia de peso mediante el empleo de equipos de precisión de crecimiento, corte y pulido de cristales. plutonio garantiza que cada oblea de 300 mm cumpla con estrictos estándares de tolerancia, un requisito fundamental para la producción de semiconductores de alto rendimiento.


conclusión

Una oblea de silicio de 300 mm normalmente pesa alrededor de 127 gramosramos, dependiendo del espesor, la pureza del material y el contorno del borde. Este componente aparentemente liviano juega un papel fundamental en la fabricación global de semiconductores, sirviendo como sustrato para miles de millones de transistores y circuitos integrados. Comprender sus parámetros físicos es esencial para el transporte de obleas, la automatización de procesos y la optimización del rendimiento.

con un control de producción avanzado e instalaciones de fabricación de última generación, plutonio Proporciona obleas de silicio de 300 mm con una precisión dimensional y una estabilidad mecánica excepcionales, lo que respalda a los fabricantes de chips más exigentes del mundo. Al combinar la precisión de ingeniería con la innovación de materiales, garantizan que cada oblea contribuya a dispositivos electrónicos más rápidos, más confiables y energéticamente eficientes.


Hogar

Productos

Teléfono

Acerca de

Consulta