En la industria de fabricación de semiconductores, la planitud del sustrato de una oblea es un parámetro crítico. Sin una planitud excelente, los procesos posteriores, como la litografía, la deposición de película delgada, el pulido químico-mecánico (CMP) y la unión, pueden verse afectados en términos de rendimiento, uniformidad y fiabilidad.
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2025-12-08